Установка лазерной очистки HP-100
- Описание
- Характеристики
- Рекомендации по использованию
- Документация
Технология импульсной лазерной очистки использует источник с коротким импульсом и высокой плотностью мощности для воздействия на поверхность очищаемого объекта. При воздействии происходит мгновенное испарение и отслоение, реализующее цель очистки поверхности. Лазерная очистка имеет высокую эффективность, низкую стоимость эксплуатации и отличается отсутствием побочных продуктов обработки.
- Низкая стоимость эксплуатации;
- Удобство и простота в использовании;
- Стабильный результат, долгий срок службы оборудования;
- Отсутствие расходных материалов за исключением защитных стекол;
-
ПараметрЗначение
-
Производитель
-
Тип излучателяRaycus
-
Длина волны1064 нм
-
Режим работыИмпульсный
-
Выходная мощность100 Вт
-
Диапазон настройки мощности1-100%
-
Отклонения мощности< 5%
-
Длина транспортного кабеля5 м
-
Охлаждениеинтегрированный чиллер
-
Область сканирования5-120 мм и т.д.
-
Глубина фокусадо 10 мм
-
Габариты350х450х700 мм
-
Вес пистолета~1.0кг Эксплуатация
-
Окружающая среда0~40°C, влажность ≤ 80%
Область применения:
- Удаление оксидного слоя на металле
- Удаление масляных загрязнений
- Удаление краски